每个工位独立温控、独立搅拌,相邻工位可以设置完全不同温度,用于反应条件筛选、工艺优化、催化剂对比;区别于普通多联加热块(整板统一温度)。
一、先明确你的实验场景
常压合成(有机合成、条件筛选):玻璃反应管 / 小烧瓶,需要回流、惰性气体保护、取样;优先独立控温 + 独立磁力搅拌,PT100 内测温
高压平行反应:平行高压釜,承压、耐腐蚀,磁耦搅拌,单独温压控制,要有爆破片、超温联锁
低温反应(-20℃及以下):优先帕尔贴(Peltier)一体化或外接低温循环机;注意帕尔贴相邻工位隔热,否则互相串热
光催化平行反应:独立温控 + 独立光源,温控和光路分开,避免光源发热干扰温度读数
重点避坑:很多商家 “多工位平行仪” 只是整板统一控温,不是单独控温;下单前确认:每个通道可独立设置温度、互不干扰
二、温控系统(最核心指标)
测温传感器:优先 PT100,支持插入溶液内测液温,而不是只测铝块 / 模块温度;只测块温会有很大温差,数据不可靠
控温精度
常规合成:±0.5℃ ~ ±1℃够用
动力学、结晶、活化能敏感反应:优先 ±0.1~±0.3℃
温度范围
常温~180℃:电加热模块
-30~180℃:帕尔贴加热制冷一体(Mya4 这类),相邻工位温差可做到上百度,隔热设计很关键
-78℃低温:外接低温循环浴,模块带换热流道
升温速率、过冲控制:PID 自整定;精密反应要求过冲<1℃
工位隔热结构:独立控温成败关键点!隔热差的机型,高温工位会把旁边低温工位 “带热”,失去独立控温意义;咨询厂家相邻工位温差最大支持多少、隔热方式
程序控温:是否支持每个工位独立升温 / 恒温 / 降温梯度程序、定时、自动停机
三、工位、容积、容器适配
工位数量:4/6/8/12 位最常用,按常规最大实验量选,不要盲目选太多;工位越多成本越高、故障率上升
单工位容积:2ml/5ml/10ml/20ml/50ml/100ml 可选,优先模块化更换样品架,一套主机适配多种规格反应瓶
材质:
常压:3.3 高硼硅玻璃、PTFE 密封件,耐酸碱有机溶剂
高压:316L 不锈钢、哈氏合金内衬,强腐蚀选哈氏、钛材
可视性:优先透明反应容器,方便观察颜色、沉淀、相变
四、搅拌系统(独立控温配套)
两种主流方案:
独立磁力搅拌(常压主流):每个工位独立磁驱,转速单独可调;适合低、中粘度;注意高粘度体系磁力搅拌子丢转
独立磁耦合机械搅拌(高压 / 高粘度):每个工位独立电机,扭矩大,适合固液、高粘催化体系,成本更高
参数关注:转速范围、扭矩、是否正反转、是否防失磁
五、拓展功能(按需选配)
回流冷凝:每个工位独立冷凝接头、CPC 快插水冷接口,适合回流反应
气路系统:单路独立阀,惰性气体置换、真空、加压,互不串气,防止交叉污染
取样口 / 隔膜进样:不用开盖,注射针取样,适合无水无氧敏感体系
数据记录:电脑软件、RS485/USB 通讯,温度、转速、时间自动存储,满足论文溯源、GLP
压力监测(高压款):独立压力表、压力超限联锁
六、安全保护(必须逐项确认)
独立超温保护(每个工位独立温控切断,不是整机一个保护)
过热报警、超时停机
高压款:爆破片、压力超限保护、安全联锁
防干烧、漏电保护;耐腐蚀面板,防溶剂腐蚀
七、控制与操作
触屏独立分显:每个工位温度、转速一目了然
区分:主机统一屏幕分通道设置 VS 每个工位独立小面板
软件功能:曲线回放、方法保存、导出 Excel
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